３．ＰＬＤ装置

本研究で使用したＰＬＤ成膜装置について説明します。

1. 真空チャンバー（誠南工業（株）製）は、ターボ分子ポンプとロータリーポンプからなる真空排気系で１０^−６Ｔｏｒｒ以下まで排気することができます。
2. 真空容器には酸素ガスの導入口があり、マスフローコントローラーと接続されています。また、レーザー光を導入するための石英ガラス窓が設けられています。
3. レーザー光源としてはＫｒＦエキシマレーザー（ラムダ・フィジクス製ＣＯＭＰｅｘ）を用いています。
4. レーザー光は、集光レンズを介して透過窓を通り、真空容器内のターゲットホルダーに固定されたターゲットに照射されます。このターゲットホルダーは回転機構を有しており、レーザースパッタによってターゲットの表面に生じる穴の位置を変え、堆積速度を一定に保つことができるようになっています。
5. ターゲットにはφ２０ｍｍのＩＴＯの焼結体を用いており、レーザー光により表面がスパッタされます。
6. スパッタされた粒子は、ターゲットから７０ｍｍの位置に対向して保持された基板の表面に到達し、膜を堆積させます。基板を加熱する場合には、基板ホルダー内に埋め込まれたヒーターと熱電対により制御して基板を設定した温度に保持します。

ＰＬＤ成膜装置の模式図をＦｉｇ．３−１、ターゲットからのプルームをＦｉｇ．３−２に示します。

Ｆｉｇ．３−１　ＰＬＤ装置の模式図	Ｆｉｇ．３−２　ターゲットからのプルーム

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